Przez lata wydawało się to niemożliwe. Technologia ekstremalnej litografii ultrafioletowej (EUV) była jednym z ostatnich bastionów zachodniej dominacji w branży półprzewodników. Dziś pojawiają się jednak sygnały, że ten porządek może w przyszłości ulec zmianie. Według dostępnych informacji, chińscy inżynierowie zbudowali działający prototyp maszyny EUV, kluczowego elementu w produkcji najbardziej zaawansowanych procesorów. Jeśli doniesienia się potwierdzą, będzie to jeden z najważniejszych przełomów technologicznych ostatnich lat – nie tylko dla rynku chipów, ale także dla całego ekosystemu chmury, AI i infrastruktury obliczeniowej.
Dlaczego EUV jest tak ważne?
Maszyny EUV są sercem nowoczesnych fabryk półprzewodników. To one pozwalają „rysować” struktury tranzystorów o wielkości kilku nanometrów na krzemowych waflach, wykorzystując światło o ekstremalnie krótkiej długości fali. Bez tej technologii produkcja układów 5 nm, 3 nm i kolejnych generacji po prostu nie jest możliwa. To właśnie z tych maszyn korzysta TSMC czy Samsung.
Do tej pory jedynym producentem takich maszyn był holenderski ASML. Każde urządzenie to konstrukcja o wadze ponad 180 ton, wielkości autobusu miejskiego i cenie sięgającej 250 milionów dolarów. Co więcej, EUV to nie pojedyncza maszyna, lecz efekt współpracy całego ekosystemu firm, od precyzyjnej optyki, po ultraszybkie lasery i systemy próżniowe.
Chiński prototyp – pierwszy krok, ale nie finał
Według źródeł branżowych, chiński prototyp EUV powstał na początku 2025 roku i obecnie przechodzi testy. Maszyna jest w stanie generować światło EUV, co samo w sobie stanowi ogromne osiągnięcie inżynieryjne. Projekt miał powstać dzięki zespołowi specjalistów, wśród których znaleźli się byli pracownicy ASML, posiadający doświadczenie w tej niezwykle wąskiej dziedzinie.
To jednak dopiero początek drogi. Samo wygenerowanie światła EUV nie oznacza jeszcze zdolności do masowej produkcji chipów. Przejście od działającego prototypu do stabilnej linii produkcyjnej to proces liczony w latach. Nawet ASML potrzebowało dekad, aby doprowadzić swoje systemy do obecnego poziomu niezawodności.
Chińskie źródła mówią o możliwym rozpoczęciu realnej produkcji układów z wykorzystaniem własnej maszyny EUV w okolicach 2028 roku, podczas gdy bardziej ostrożne szacunki przesuwają ten termin bliżej 2030 roku. Mimo to są to daty znacznie wcześniejsze, niż zakładali jeszcze niedawno analitycy.
Geopolityczny wymiar technologii
Znaczenie tego projektu wykracza daleko poza samą branżę półprzewodników. EUV jest jednym z kluczowych narzędzi, które pozwalały Zachodowi ograniczać rozwój chińskiego przemysłu chipowego poprzez sankcje i kontrolę eksportu. Własna technologia litograficzna oznaczałaby dla Chin realną niezależność w produkcji najbardziej zaawansowanych procesorów.
Nieprzypadkowo projekt bywa porównywany do Manhattan Project, ogromnego, wieloletniego wysiłku państwowego, prowadzonego w warunkach ścisłej tajemnicy. Według doniesień, część prac była prowadzona poza oficjalnym obiegiem informacyjnym, a zaangażowani inżynierowie mieli pracować pod pseudonimami.
Na krótką metę pozycja ASML nie jest jeszcze zagrożona. Chiński prototyp jest większy, mniej dopracowany i nadal zależny od komponentów, które trudno pozyskać bez dostępu do zachodniego łańcucha dostaw. W dłuższej perspektywie jednak monopol ASML po raz pierwszy został realnie zakwestionowany.
